真空甩帶爐利用形核理論，對大塊非晶合金的形成條件、控制因素、合金成分設計思路、制備原理與技術等進行了分忻與討論。非均勻形核的避免和均勻形核的抑制是大塊非晶合金成功制備的充分必要條件，前者要通過外部熔煉條件的有效控制來實現，后者要通過合理的成分設計來實現。 　　真空甩帶爐由真空室、甩帶裝置、坩堝自動升降裝置、氣路系統、機殼和熔煉電源等組成。 　　1、真空室：采用組焊而成并做表面處理，爐門上裝有大尺寸觀察窗，既滿足高真空要求，又便于觀察實驗情況。 　　2、甩帶裝置：采用伺服電機驅動，無極調速，密封采用磁流體密封裝置，銅棍拆卸方便。轉動平穩，噪音極低。 　　3、坩堝自動升降系統：真空甩帶爐的坩堝自動升降系統采用氣動升降，帶延時裝置，可根據不同材料設備不同噴帶參數。 　　4、氣路系統：由電磁閥、壓力罐、手動閥門和管路組成。 　　5、機殼：結合國內外真空甩帶爐設備外觀經驗，根據自身設備特點，設計出合理機殼，外表噴塑處理。 　　6、熔煉電源：真空甩帶爐采用定制的專用熔煉電源，操作簡單，結構小巧。

　　真空速凝爐組成介紹 　　真空速凝爐主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護條件下的感應熔煉及快冷甩帶成型；適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。 　　真空速凝爐的真空腔體：由爐體、爐蓋和爐底組成；爐體由304不銹鋼法蘭和內外筒體組焊而成，內壁鏡面拋光，爐體上開設有壓鑄接口、噴鑄接口、旋轉電極接口、甩帶收集管、紅外測溫接口、模具預熱電源電極引入接口；爐蓋由整體實心304加工而成，上面開設有大直徑觀察窗，可直觀的觀測到爐內的各種實驗情況；爐底也是由整體實心304加工而成，固定有甩帶裝置。整體外觀啞光處理，整潔大方。 　　它的熔煉裝置由IGBT超音頻電源、水冷電纜、旋轉電極、線圈、保溫套和坩堝組成，通過更換線圈、保溫套和坩堝實現不同容量。高溫度可加熱至1700℃。（容量按照50g,200g,500g,1000g來配），熔煉完成后可通過手動傾倒到模具內。 　　噴鑄裝置由氣缸、石英管、時間繼電器、氣源恒定裝置等組成，可實現小容量溶液的噴帶和噴鑄。甩帶裝置由噴鑄裝置、高速調速電機、磁流體密封裝置和銅棍等組成，可通過調節電機速度，實現不同銅棍線速度。抽真空系統由一臺擴散泵、一臺雙極直聯泵、三臺氣動擋板閥、真空管路和真空計等組成，冷態極限真空度優于5.0×10E-3Pa。 　　真空速凝爐爐體支架由型材和鋼板拼裝而成，門板全部采用數控加工，尺寸精度高，外表噴塑處理，整體布局合理，顏色搭配美觀。和電控柜采用一體結構。