氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。

　　氣相沉積爐日常使用方法有哪些呢　　氣相沉積爐主要用于半導體元器件及電力整流裝置的燒結工藝，可進行真空燒結、氣體保護燒結及常規燒結，是半導體專用設備系列中新穎的技術裝備，設計思路新穎，操作方便，結構緊湊，一臺設備即可完成多個工藝流程。也可用于其他領域的真空熱處理、真空釬焊等工藝，那么下面一起了解下爐子的使用必備技巧吧!　　氣相沉積爐在抽真空后氫氣保護的情況下，利用中頻感應加熱原理，使位于盤管內的鎢坩堝達到高溫，通過熱輻射傳導到工作中，適用于科研、軍工部門對鎢、鉬及其合金粉末進行成型燒結。安裝爐子的場地應符合真空衛生要求，周圍空氣清潔干燥，通風條件好，工作場所不易揚起灰塵等。它的日常使用方法：　　1、檢查控制柜內所有零部件及部件是否完好、完好?！　?、控制柜安裝固定在相應的基礎上。　　3、查看接線圖，參考電路圖，連接外接主回路和控制回路，可靠接地，保證接線無誤?！　?、檢查電器活動部位活動自如，無卡死現象。　　5、絕緣電阻不應小于2萬億歐姆?！　?、氣相沉積爐各閥門必須在關閉位置?！　?、控制電源開關置于斷開位置?！　?、手動調壓旋鈕逆時針轉動頭。　　9、將報警按鈕置于打開位置?！　?0、平面圖完成設備循環冷卻水連接時，建議用戶在氣相沉積爐總進出水管處再加一層備用水(可用自來水)，防止循環水故障或斷電引起密封圈燃燒。